台灣美日先進光罩

The leader In Photomask Technology

台灣美日先進光罩作為全球最大的商用光罩生產公司,除了不斷完善產品線與優化服務,持續投入先進製程開發外,同時也對產能的拓展有長期且積極的投資計劃,以期能對人類文明進步與半導體產業發展能盡一份綿薄之力。
台灣美日先進光罩

The leader In Photomask Technology

台灣美日先進光罩作為全球最大的商用光罩生產公司,除了不斷完善產品線與優化服務,持續投入先進製程開發外,同時也對產能的拓展有長期且積極的投資計劃,以期能對人類文明進步與半導體產業發展能盡一份綿薄之力。

PDMC

領先全球技術 Photronics世界一流

50 多年來,我們一直在光罩製造和技術方面領先同儔,為客戶提供最佳品質。我們的專業產品具世界一流的性能,同時持續拓展業務,以支持集成電路(IC)和平板顯示器(FPD)的尖端技術。事實上,能同時服務於IC和FPD行業的商用光罩企業中,Photronics獨樹一幟。我們的全球影響力、產品範圍和技術實力無與倫比。我們投資最先進的工具,並竭力與您合作,切實滿足您所有的光罩需求。

領導團隊

Our team

Frank Lee, Ph.D.

CEO

 

Richelle Burr

Executive Vice President, Chief Administrative Offcer

 

John P. Jordan

Executive Vice President, Chief Financial Officer

 

Christopher J. Progler, Ph.D.

Executive Vice President, Chief Technology Officer, Strategic Planning

 

David Wang

Operation Center
Senior Vice President

 

Jeremy Wang

Sales
Vice President

 

David Young

Finance
Vice President

 

Andy Chen

Data Engineering Group
Vice President

 

Future

創造全新的 未來展望
共創雙贏光明的未來

台灣美日先進光罩股份有限公司乃延攬先進光罩研發及先進微影製程實作的一流人才及菁英團隊所組成,除立即供應目前業界所需之高檔傳統性光罩外,進而推出最先進之高階相位移光罩,以增進公司之生產良率,提升產品競爭力。我們確信,未來在製程技術愈趨精密的情勢下,高階相位移光罩的需求與比例將日益提高。

台灣美日先進光罩

Leading-Edge Advanced Photomasks

台灣美日先進光罩股份有限公司緣於「翔準先進光罩股份有限公司」與「台灣大日印光罩公司」於2014年4月4日合併後更名而生,合併後翔準先進光罩為存續公司,台灣大日印光罩則為消滅公司。

翔準先進光罩公司於1997年10月4日獲准成立進入新竹科學園區,目前於新竹及台中科學園區各有一座生產工廠,台灣大日印公司成立於2007年11月9日,在新竹科學園區設有一座生產工廠。合併後的台灣美日先進光罩將是全台灣唯一擁有三座生產工廠之光罩製造廠,以生產高層次積體電路光罩為主要目標。

本公司係結合國內各大晶圓及光罩廠傑出之專家,共同創設具有相位移光罩(Phase Shift Mask,PSM)技術之世界一流光罩公司,並將對各晶圓廠提供微影製程(photolithography),電腦模擬(computer simulation),電腦輔助設計(CAD)等技術諮詢服務,以提昇國內晶圓廠之製程技術,增強IC業者之國際競爭力。

公司之經營目標如下:

一、 建立量產成熟及高階光罩之能力,包括28奈米的先進技術。

二、 提昇台灣IC工業微影製程之技術層次。。

三、 成為所有IC公司虛擬之光罩製作廠(virtual mask shop)。